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簡要描述:原位激光過程氣體分析儀是基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS)的高性能光學分析儀器,采用對射式設(shè)計,可用于工業(yè)過程氣體控制;其響應時間快速,在原位式測量中一般以秒計算,避免采樣式測量帶來的時間延遲,可在線及時的反應被測氣體濃度。
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原位激光過程氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS)的高性能光學分析儀器,采用對射式設(shè)計,可用于工業(yè)過程氣體控制;其響應時間快速,在原位式測量中一般以秒計算,避免采樣式測量帶來的時間延遲,可在線及時的反應被測氣體濃度。
技術(shù)參數(shù):
性能參數(shù) | |
測量組份 | O2、CO、CO2、CH4* |
測量原理 | TDLAS |
測試范圍 | O2:(0 ~ 5)%VOL (可定制100%) CO:(0 ~ 100)%VOL CO2:(0 ~ 100)%VOL CH4:(0 ~ 20)%VOL |
精度 | ≤±1%F.S. |
重復性 | ≤±1% |
量程漂移 | ≤±1%F.S. |
分辨率 | 0.01%VOL |
響應時間 | T90≤1s |
工作參數(shù) | |
防爆等級 | Exd II CT6 |
安裝方式 | 原位安裝 |
環(huán)境溫度 | (-20~ +60)℃ |
工作電源 | 24V DC,24W |
吹掃氣體 | (0.3~ 0.8)MPa工業(yè)氮氣 |
接口信號 | |
通訊 | RS485、RS232 |
輸出模式 | 2路4-20mA輸出 3路繼電器輸出 |
*注釋:每套分析儀測量單一組分氣體濃度 |
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