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四方光電(武漢)儀器有限公司為四方光電股份有限公司(688665.SH)的全資子公司,前身為成立于2010年的湖北銳意自控系統有限公司,是一家專業提供氣體成分及流量測量方案的高新技術企業,服務于環境監測、過程氣體監測、智慧計量等領域。 基于四方光電核心氣體傳感技術平臺的優勢,四方儀器開發了系列非分光紅外(NDIR)、紫外差分吸收光譜(UV-DOAS)、激光拉曼(LRD)、超聲波(Ultrasonic)、熱導(TCD)、光散射探測(LSD)等技術原理的氣體成分流量儀器儀表,產品廣泛應用于環境...
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查看更多2025年4月18日,四方光電股份有限公司(以下簡稱:四方光電,代碼:688665.SH)正式發布《2024年環境、社會與公司治理(ESG)報告》(以下簡稱:報...
技術文章 article
查看更多1.腔室清潔終點精確控制的重要性與挑戰薄膜沉積(如CVD/ALD)、光刻和刻蝕是半導體制造的三大核心工藝,其中薄膜沉積作為基礎環節,負責金屬、介質及半導體薄膜的制備。為確保薄膜沉積工藝的穩定性,需定期使用NF?對腔室進行清潔,以去除積聚的聚合物材料。精確控制清潔終點至關重要:l清潔不足:殘留沉積物會形成顆粒污染,導致產品良率下降l過度清潔:增加NF?消耗、延長設備停機時間并縮短腔室壽命。傳統方法依賴經驗時間控制清潔終點,但最佳清潔時間受多變量影響(如沉積厚度、溫度、壓力、氣體...